紫外臭氧清洗機是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟，快速的材料表面清洗設備，只需把樣品放置到樣品盤(pán)上，關(guān)上艙門(mén)，設置時(shí)間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數無(wú)機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。
紫外臭氧清洗機的光清洗技術(shù)的應用范圍十分廣泛，在現代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著(zhù)我國工業(yè)現代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
1、在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力；
2、印制電路板生產(chǎn)中，對銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導線(xiàn)焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線(xiàn)距達到亞微米級時(shí)，光清洗可輕易地去除在線(xiàn)距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3、大規模集成電路的密度越來(lái)越高，晶格的微細化越來(lái)越密，要求表面的潔凈度越來(lái)越高，光清洗可以有效地實(shí)現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會(huì )造成損傷。
4、在半導體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
5、在光盤(pán)的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤(pán)的質(zhì)量。
